Partner story | Nobleo at Semicon08
Nobleo: Pionier in geavanceerde inspectieoplossingen binnen het Semicon 08-project
Nobleo is een toonaangevende bijdrager aan het Semicon 08-project. Als innovator op het gebied van hogesnelheidsscanning en inspectietechnologie, specialiseert Nobleo zich in toepassingen op basis van machine learning en vision-gebaseerde oplossingen. In samenwerking met IMS en Settels Savenije speelt Nobleo een cruciale rol bij de ontwikkeling van inspectiesystemen voor fotonische geïntegreerde circuits (PIC’s), een sector die steeds belangrijker wordt binnen de hightechindustrie.
Project achtergrond:
Metrology Equipment for critical scaling of PIC Production
Binnen dit project worden twee machines ontwikkeld waarmee geïntegreerde fotonische chips getest kunnen worden. Het doel is om met het consortium wereldleider te worden voor visuele en prober test equipment van geïntegreerde fotonica. Hiervoor worden drie generaties machines ontwikkeld waarin fundamenteel onderzoek wordt omgezet tot werkende machines.
Belangrijke rol binnen Semicon08
Binnen het Semicon 08-project is Nobleo verantwoordelijk voor de algoritmes voor oppervlakte-inspectie, wafer-uitlijning en scanfunctionaliteiten binnen het fotonische wafer-inspectiesysteem. Door gebruik te maken van zijn expertise in machine learning, heeft Nobleo een reeks tools ontwikkeld voor het annoteren en definiëren van waferdefecten, in samenwerking met Lionix. Deze geannoteerde data wordt gebruikt om machine learning-netwerken te trainen, die essentieel zijn voor de nauwkeurige detectie van defecten in de productie van PIC’s.
Nobleo’s bijdrage omvat ook de ontwikkeling van twee kernoplossingen:
Een hardwareplatform voor de inspectie van defecten in fotonische wafers.
Een softwareoplossing die waferafbeeldingen kan verwerken met standaardapparatuur.
De synergie tussen Nobleo’s hardware- en software-oplossingen maakt hogesnelheidsscanning en nauwkeurige defectdetectie mogelijk, waardoor de algehele kwaliteitscontrole van fotonische wafers wordt verbeterd.
Verwachtingen en toekomstige impact
Vooruitkijkend streeft Nobleo ernaar zijn algoritmes voor oppervlakte-inspectie uit te breiden naar diverse hightechindustrieën. Met steun van het NXTGEN Hightech-initiatief wil Nobleo zijn inspectieplatform integreren in het ecosysteem van de Universiteit Twente, bekend als "New Origin". Dit platform zou kleinere bedrijven toegang geven tot geavanceerde scanmogelijkheden voor uiteenlopende, kleinschalige productielijnen. De middelen en het netwerk van NXTGEN Hightech zouden een belangrijke rol kunnen spelen bij de uitbreiding van Nobleo’s technologie binnen de hightechgemeenschap.
Toegevoegde waarde en integratie in de industrie
Nobleo’s belangrijkste bijdrage aan het Semicon 08-project ligt in zijn expertise in machine learning voor defectdetectie, gecombineerd met hogesnelheidsscanning en nauwkeurige uitlijningsalgoritmen. Deze brede expertise stelt Nobleo in staat om essentiële functies van de scanmicroscoop te beheren, waardoor uitlijning, defectdetectie en wafer-scanning met hoge precisie en efficiëntie worden uitgevoerd.
Dankzij diepgaande kennis van machine learning, autofocuscontrole en planningsalgoritmen voorziet Nobleo het Semicon 08-project van krachtige tools om te voldoen aan de hoge eisen van grootschalige PIC-productie.
Lopende en toekomstige plannen
Het hardwareplatform van Nobleo maakt het mogelijk om waferdefecten te detecteren tot een grootte van 0,1 μm, met de mogelijkheid tot onmiddellijke analyse via de faciliteiten van IMS. Daarnaast heeft Nobleo een softwareoplossing ontwikkeld voor de automatische verwerking van waferafbeeldingen, waardoor waferkaarten kunnen worden gegenereerd die defectlocaties identificeren naast de waferontwerpbestanden.
Voor de toekomst is Nobleo van plan om nauw samen te werken met leidende klanten om zijn inspectiesysteem uitgebreid te testen en te verfijnen, met als doel zowel de robuustheid van de hardware als de precisie van de defectdetectie-algoritmen te verbeteren.
Tegen 2030 verwacht Nobleo dat de verzamelde gegevens en verbeteringen uit uitgebreide veldtesten zullen resulteren in een industrie-standaard inspectieoplossing, die voldoet aan de strenge eisen van de PIC-productie.
Conclusie
De rol van Nobleo in het Semicon 08-project benadrukt zijn kracht in geavanceerde machine learning, optica en regelsystemen, waarmee het een ideale partner is voor de ontwikkeling van PIC-productietechnologie. Met zijn hogesnelheidsscanning en geavanceerde inspectie-algoritmen draagt Nobleo bij aan de toekomst van fotonische waferinspectie en legt het de basis voor een schaalbare, geautomatiseerde oplossing binnen de fotonica-industrie.
Dankzij NXTGEN Hightech zijn de oplossingen van Nobleo klaar om een blijvende impact te maken, door efficiëntie en innovatie in de hightechproductie te bevorderen.